二手 NTACT nRad #293813619 待售

NTACT nRad是设计用于先进光刻工艺的光刻设备。光致抗蚀剂是用来在光掩模、晶片和其他基材上创建图样的化学品。NRad系统是一种基于干涉干涉仪的亚波长成像技术。利用这一单元，可以为各种半导体制造创造出纳米大小的特征。NTACT nRad机利用一束相干、相当单色的光束在基板上绘制设计。这种光是由光子组成，每个光子都携带一定的能量。光子与通常由聚合物和其他光致抗蚀剂化合物组成的抗蚀剂材料相互作用，影响材料的化学成分。随着光强度的变化，每个光子携带的能量量发生变化，改变了光刻胶的化学性质。这样就可以以高达几百纳米的分辨率产生极其精确和详细的图桉。利用这种精度水平，nRad工具可用于制造具有晶体管等电路元件等微小特性的复杂半导体器件。资产的精确度也归功于它使用了两束干涉干涉仪。这种类型的干涉仪利用一个"双射"将一束光束分成两束光束，两束光束之间的相位差可调节。相位差可以精确调整，在基板上创建一个特定的模式。NTACT nRad模型也非常适合与电子束光刻、离子束写入和极紫外光刻等其他制造技术一起使用。这些技术的组合可用于创建现代设备制造所需的纳米级特征的复杂模式。总体而言,nRad设备是用于高级光刻和制造过程的强大工具。该系统利用双束干涉干涉仪在基板上产生纳米级特征，具有极精确、无破坏性的图样。因此，它是当前光刻范式中的关键组成部分，在业界备受追捧。