二手 NTACT nRad #9410379 待售
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NTACT nRad是由NTACT Corporation开发的光刻胶设备。这种先进的光刻系统在性能、均匀性和兼容性方面提供了卓越的功能。它非常适合制造先进的半导体元件、生物医学产品和MEMS（微机电系统）。简单地说，nRad光抗蚀剂单元使用感光液体层来创建图样化的表面。液体层暴露于特定波长的光后，可以开发出暴露层，作为金属层的绝缘层。裸露层在顶部显示图桉化层。NTACT nRad机器采用独特的悬挂设计，具有先进的溷合能力，这使得它非常适合大规模生产过程。还可以根据特定的应用程序要求对悬挂进行非常精细的调整,以满足客户的需求。该工具还提供了纳米级特征尺寸的精细控制。高级溷合功能和复杂的结构可以根据所需的特征大小进行高度缩放。这允许精确调整特征大小。除了标准的光致抗蚀剂外，该资产还能够与SU8和ECP（电化学聚合）等先进的抗蚀剂化学物质一起使用。它还提供了与先进技术如离子束蚀刻和激光加工的极好的兼容性。该型号在均匀性和分辨率方面也提供了出色的性能。NRad设备的最小特征尺寸为0.6微米，线宽可调性为0.1微米，均匀性为+/-0.005微米。NTACT nRad光刻胶系统效率高,以合理的成本提供优异的性能.这种先进的光致抗蚀剂单元可用于制造半导体基板、生物医药产品和MEMS元件，精度和效率都非常出色。
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