二手 OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF #9203891 待售

OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF是一种高性能光刻设备,旨在为微电子和半导体器件制造提供卓越的生产率、准确性和可重复性。该系统采用先进技术，在硅晶片等基板上和设备制造中使用的其他基板上精确绘制光刻胶图样。该单元由一个扫描仪级组成，该级定位和定向基板以获得最佳图样。它配备了超高分辨率、数字成像机、精密的激光基选择性曝光工具，以及高精度、低速的光学资产，用于一致、精确的摄影曝光。该模型还包括一个用于自动样本分析的多区域计量设备。该系统利用高分辨率透明的光片，它暴露于紫外线（UV）激光束。然后透明的薄膜在样品上移动并暴露于额外的激光能量。即使在高光刻分辨率（450 nm）的情况下，透明光圈和紫外线激光束的结合也能准确地定义细粒度特征。640SAF还采用了复杂的图像处理算法，用于将阵列化设备精确地与基板对齐。此外，它能够就成像过程的统一性和可重复性向用户提供准确的反馈，从而有助于确保一致、高质量的结果。此外，OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF为各种类型的半导体器件提供了容纳多种基板尺寸的灵活性。此外，它的可调蒙版打开技术使用户能够轻松地从一次曝光切换到多次曝光模式。这样，用户可以快速调整单位，以适应不同的产品要求。总体而言，640SAF是一台可靠、用途广泛的光刻机，为各种微电子和半导体器件制造工艺提供了最佳的生产率、准确性和可重复性。它的多种操作模式使用户能够在不同的生产技术之间快速切换,从而实现了广泛的设备设计复杂性级别。此外，该工具的精密算法使设备设计能够快速准确地与基板对齐，从而提供高质量的微电子产品。