二手 OPTORUN GENER-1300 #293615983 待售
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ID: 293615983
优质的: 2008
Vacuum coater
Chamber: φ1300 mm x 1500 mm
Dome: φ1200 mm (Spherical)
Low energy DC ion source (For plastic lenses)
EDWARDS E2M285 Pump, 2010 vintage
HELIX / POLYCOLD PFC-1000HC Chiller
Exhaust system:
E2M275 + EH1200 Lu Type, 2010 vintage
DP + POLYCOLD, 28"
Evaporator:
JEOL JST-10F E-beam power supply, 10kW
(2) Thermal resistance boats
Film thickness control:
Optical monitoring
6-Points quartz monitoring
2008 vintage.
OPTORUN GENER-1300是一种光阻设备，用于制造微电路、半导体、MEMS器件以及电子和半导体行业中使用的其他组件。它利用先进的紫外线，包括紫外线激光器，将光敏抗蚀层暴露在基板上。然后使用此抗蚀剂定义基板表面的电路模式和布局。OPTORUN GENER 1300光抗蚀剂系统可以将抗蚀剂暴露在波长为190-365 nm的光下。光照强度和持续时间用高精度定时机构控制。该单元分为四个主要组件,每个组件在过程中执行特定任务。第一个部件是光刻机，负责将抗蚀剂表面暴露在紫外线下。光头包含聚焦并指向基板表面的激光器。这种激光器在预编程路径中沿着基板表面移动，可以调整以暴露不同强度和位置的不同区域。第二个组件是对齐阶段，它有助于使基板进入光刻机的适当位置，以及对齐表面以进行适当的曝光。对齐阶段可以在三个轴上进行调整，可以编程来执行各种操作。第三个组成部分是化学管理机器。该组件负责控制预烤过程、开发过程和基材的后处理。预烘烤阶段包括软烘烤、耐涂层、硬烘烤、预蚀刻和后蚀刻。开发过程涉及抗蚀剂的后处理，包括强调溶剂和显影剂的选择、温度、时间和浓度。第四个部件是履带工具，负责将基板装卸进出机器，以及记录暴露和发达基板的信息。除四大部件外，GENER-1300光刻资产还配备了多项安全功能，包括光学安全罩。这种安全屏蔽保护操作员免受模型发出的任何紫外线辐射，并为潜在的眼部伤害提供保护。设备还配备了温度控制系统，以确保机器中的温度在整个操作过程中保持在给定的范围内。总体而言，GENER 1300光刻装置是一个先进的机器，设计制造电子元件的精度和精确度。高度受控的环境和可编程功能允许快速高效地制造电路模式和布局。安全功能确保工具安全、负责任地操作。
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