二手 OPTORUN OTFC-1300 #293759183 待售
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ID: 293759183
Optical thin film coater
Left ring type
OIS-TWO Ion source: 17 cm
RFN-3A Neutralizer
Lamp: 350 nm - 1100 nm
INFICON XTC / 3S Crystal controller: 6 MHz
HOM2-R/T-VIS350A Light controller: 60 Points
Right point type: 24-Points, 35 x 15 mm
JEBG-203UHO Dual gun: 10 kV, 180°
ULVAC VS2401 Oil rotary vacuum pump
ULVAC NB1200A Mechanical booster pump
Oil mist absorption tower
Oil diffusion pump
PHC-672HC Low temperature condenser
Substrate rotation: 10 rpm - 50 rpm
Temperature: 350°C
Vacuum: 9.0 E - 5 Pa
ULVAC SW1 / SC1 Vacuum gauge
UPS.
OPTORUN OTFC-1300是一种先进的光阻设备,旨在促进集成电路和其他需要精确蚀刻超细特性的组件的开发。该系统基于获得专利的先进液态光刻技术,能够实现高灵敏度和高分辨率的蚀刻工艺。它具有一系列精密设计的元件和设置,可以调整以优化蚀刻条件。OPTORUN 1300的核心是其液态光致抗蚀剂,它由两种基本元素组成:一种光致抗蚀剂材料和一种感光添加剂。光敏材料会对光能产生反应,而光敏添加剂会进一步使过程灵敏。当暴露在光线下时,光刻胶材料会变硬,形成一层抗蚀刻的保护膜,并保留所需的特性。该单元还包括晶片卡盘、X-Y线性级、预对准器、Z轴执行器、高分辨率激光器和晶片扫描仪。晶片卡盘将晶片牢固地固定在适当位置进行蚀刻,X-Y线性级允许在蚀刻过程中精确对准基板。预对准器有助于确保高对准精度,Z轴执行器使机器能够蚀刻基板上的特征,而不会损坏光刻胶薄膜。激光用于扫描晶片并检测缺陷,而晶片扫描仪在蚀刻前对晶片进行详细的光学检查。为确保高质量的蚀刻结果,OTFC 1300配备了先进的光学成像工具和反馈机制,可监控蚀刻过程并在需要时进行必要的校正。资产的所有硬件组件均经过OPC认证,确保符合任何必需的行业标准。除了其先进的蚀刻能力外,1300还提供各种先进的自动化和过程控制功能。强大的微型计算机控件使用户能够快速编程和调整蚀刻设置以获得最佳性能。该模型与SHERLAY LabVIEW软件兼容,该软件提供了对高级命令行功能的轻松访问以及用户友好的图形用户界面,以快速获取结果。OTFC-1300是为满足最苛刻的加工要求而设计的,非常适合集成电路制造和其他高精度蚀刻应用。它提供了卓越的加工精度、高收率和可靠的性能,使其成为需要最大蚀刻精度的用户的绝佳选择。
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