二手 OPTORUN OTFC-1300 #9190582 待售
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已售出
ID: 9190582
优质的: 2005
IAD Optical thin film coaters
High resolution optical monitor:
HOM1-1
OPTORUN OTM
Wavelength range: 1100nm - 1700nm
Wavelength resolution: 00.8nm
Light value resolution: 0.001%
Light source: Halogen lamp
Power requirements: AC100V ± 10% 50/50Hz
Power consumption: 600VA
Light sensitivity: ± 0.01 (Narrow band pass filter)
Optical system and low noise: ± 0.01%
Shutters:
(2) EB
ION
EB Sources:
L Loop hearth changed to hearth liner
R 24 Points hearth
(2) Plasma tech EB source 270° deflection systems
(2) Monitoring cameras for hearth
Pumping systems:
Qty / Make / Model / Description
(1) / EDWARDS / E2M275+MBP EH1200 X / Mechanical pump
(2) / SHIBAURA / - / Diffusion pumps, 22”
Cold traps:
Make / Model / Description
POLYCOLD / PFC660 / Meissner trap coil
AISIN / - / Super trap cold baffle plate on the DP
Substrate fixture:
Variable speed dome
Hand lifter for mounting substrates
OPTORUN OIS RF Ion source system 170mm diameter
Thickness monitor: INFICON IC5
Vacuum gauge: INFICON VGC023
Process gasses controller: INFICON VCC500
(2) E-Guns
Control:
PC
PLC
Spare shield plates
2005 vintage.
OPTORUN OTFC-1300光阻设备为用户提供了一种可靠、高效的胶片和晶片处理手段。使用这种光致抗蚀剂系统，基板材料可以暴露于由计算机辅助设计（CAD）单元确定的特定图样中。该机有望成为微电子光刻精密精密的理想工具。OPTORUN 1300特别利用光刻技术在基材上创建所需的图样。光刻涉及一种材料暴露在光线中，这种光线以某种方式改变了材料的特性。OTFC 1300光抗蚀剂投影工具利用带遮罩级和照明资产的真空室优化了这一过程。遮罩舞台是放置CAD设计的光掩模的地方，照明模型由带有输出透镜设备的光源组成。光输出透镜系统改变来自光源的光束，光掩模的图样影响光如何冲击基材。OPTORUN OTFC 1300有几个高级功能。它配备了一个真空装置，可以快速调整环境变化，防止压力的快速变化带来任何潜在的破坏影响。机器还采用冷却工具，以防止光源过热，并确保一致和精确的性能。1300具有高浓度增益特性,允许以最小损耗增加光束密度。最后,此光刻胶资产提供自动对齐技术,确保每一层始终正确对齐。总体而言，OTFC-1300光刻胶模型是在基材上创建复杂和精确图样的有力工具。它针对精确度、效率和可靠性进行了优化，非常适合那些希望在微电子光刻行业中完成各种任务的人。
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