二手 OPTORUN OTFC-1300DBI #9398672 待售
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ID: 9398672
优质的: 2008
Optical thin film coater
SUS304 Vacuum chamber: D 1300 mm x H 1610 mm
Substrate dome size: D1130 mm
Pump:
Mechanical pump: 4000L /min
Mechanical booster pump
(2) Diffusion pumps, 22"
Optical film thickness control system:
OPTORUN HOM2-R-VIS350A
Wavelength range: 350 nm - 1100 nm
Shutters:
(2) EB Sources
ION Source
Cold trap: POLYCOLD PFC670HC Meissner trap coil
INFICON VGC023 Vacuum gage
EB Source:
Left: Loop hearth
Right: 24 Points hearth
JEOL 270 Degrees deflection system
(2) JEBG EBG-203LFO
JST-10F Power supply
Substrate fixture: 10-50 RPM Variable speed dome
INFICON XTC-2 Crystal film thickness monitor
6-Points rotary crystal sensor
INFICON VCC500 Process gasses controller
INFICON VDM005-X Controlled valve
PLC Control
PC Included
2008 vintage.
OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻设备是一种用途广泛的光化学系统,专为蚀刻、溅射和层沉积等应用而设计。它可实现多达四个掩模的精确、同时曝光,而不会牺牲吞吐量。具有灵活的光发动机和多种工艺选择，这种光刻胶单元提供精确的光刻胶曝光具有均匀性和可重复性。OPTO-RUN OTFC-1300DBI光刻机由曝光室、光引擎和控制器组成。曝光室采用多腔工具，最多可同时容纳四个口罩。轻型发动机由围绕口罩布置的荧光灯环构成，按需提供高强度的紫外线。这种工程光源是可调的，允许剂量、曝光时间和曝光功率为每个面罩独立调整。除了曝光室和光发动机外，OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻胶资产还包含了精确的数字显示控制器。这使用户能够自定义模型的曝光设置，并允许精确控制曝光参数。而且控制器具有强大的光电界面，允许用户从外部计算机控制整个设备。OPTO-RUN OTFC-1300DBI光刻系统非常适合许多不同类型的微电子生产，包括集成电路（IC）、平板显示器和印刷电路板。其精确的曝光能力使其特别适合于先进的半导体应用，例如制造异构翻转芯片封装和MEMS器件。该设备的灵活性和易于使用的界面使其成为质量控制和一般洁净室操作的一个有吸引力的选择。总而言之，OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻机为微电子生产中的精确光刻曝光提供了高效的解决方桉。它是一个通用的解决方桉,可轻松适应任何生产环境,其精确的数字控制使其成为质量控制和专业应用的宝贵工具。
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