二手 OPTORUN OWLS-1800DV2H #293753765 待售
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ID: 293753765
Optical sputter coater system
Vacuum сhamber
Base plate fixture size: Ф 375 mm x 5 mm
Base plate rotating speed: 10-100 RPM
Target size: Ф 142 x H 630 Ti
(2) ICP Reaction sources with RF Power supply: 5 kW
Transmission system: Double-arm vacuum mechanical arm
Cathode power supply:
(2) Bipolar MF Power supplies: 24 kW
(2) High pulse power supplies: 20 kW
Part number: OWLS-1800DV2H.
OPTORUN OWLS-1800DV2H是专门为半导体行业的高精度光刻应用而设计的尖端光刻设备。这套先进的系统将最先进的技术与卓越的工程技术相结合,为生产具有纳米特性的半导体器件提供无与伦比的性能和可靠性。OWLS-1800DV2H单元的核心是其精密的光学光刻技术,它能够对硅晶片上的光刻材料进行精确的制图。该机配备了高分辨率的曝光工具,利用先进的光学和激光技术,实现极精细的分辨率和出色的模式保真度。这种精度水平对于制造具有密集堆积特征和复杂几何形状的先进半导体器件至关重要。OPTORUN OWLS-1800DV2H具有双级对齐资产,可确保多层模式之间的精确迭加对齐。这种能力对于用于制造复杂半导体器件(如内存芯片、处理器和传感器)的多层光刻工艺至关重要。该模型具有先进的对齐算法和实时监控功能,能够快速可靠地对齐不同的层,从而提高设备产量并提高制造效率。除了其尖端的光刻能力外,OWLS-1800DV2H设备还配备了一套全面的工艺控制和监控功能。这些功能包括自动聚焦和曝光控制、高级晶圆映射和分析工具以及实时过程参数监控。这些功能允许操作员优化光刻工艺,及早识别潜在问题,并进行实时调整,以确保一致和高质量的结果。OPTORUN OWLS-1800DV2H系统是为高批量生产环境而设计的,其中可靠性、吞吐量和产量至关重要。该装置是为连续运行而设计的,具有坚固的结构,能够承受全天候制造作业的严酷。它采用模块化设计,便于维护和升级,确保半导体制造商的最高正常运行时间和生产率。OWLS-1800DV2H台机器的主要特点包括:1.高分辨率光刻技术,用于光刻材料的精确制图。2.用于多层精确迭加对齐的双级对齐工具。3.全面的工艺控制和监控功能,以达到最佳的光刻性能.4.自动化聚焦和曝光控制,以实现一致和可重复的结果。5.坚固的结构和模块化设计,可靠性高,维护方便.总之,OPTORUN OWLS-1800DV2H是一种最先进的光刻资产,体现了半导体制造光刻技术的最新进展。OWLS-1800DV2H具有先进的功能、卓越的性能和可靠的操作,是寻求在光刻工艺中达到最高精度、质量和生产率水平的半导体制造商的理想解决方桉。
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