二手 OWENS DESIGN Gen 2 #9234061 待售

OWENS DESIGN GEN 2光刻设备是为自动化光刻工艺的设备和工艺而设计的经济高效且先进的系统。它是一个先进的光刻单元，设计与最新的技术进步。该机由高精度多轴工具、数字投影资产、强大的软件工具和高分辨率投影仪组成。此模型提供高分辨率的图像和可重复性、卓越的准确性以及直观的用户界面。多轴设备利用先进的线性和角度编码器提供精确的定位和运动控制。这使得系统可以在单元的三维空间内，将掩模、晶圆和投影仪精确地一起或独立移动。数字投影机用于将光刻图样传输到掩模或晶片上。投影仪能够提供分辨率高达2560 x 1920像素的锐利图像。它采用三透镜光学工具，提供高强度照明，消除蒙版或晶片上的莫尔图案。功能强大的软件工具易于使用,可以完全控制资产的设置。这些工具包括用于精确对齐和聚焦掩模或晶片的对齐工具。此外，还包括矢量化、补偿数据输入、复杂的光刻模式等一系列其他功能。Gen 2光刻胶模型为快速、高效、精确的图样设计。设备提供了无与伦比的质量、准确性和可重复性。它专为灵活和自动化的过程而设计,为生产和原型设计提供了经济高效的解决方桉。