二手 OWENS DESIGN Gen 2 #9234063 待售

OWENS DESIGN GEN 2是一款数字光刻设备，专为改造半导体制造市场上的传统掩蔽工艺而设计。该系统是现有最先进的光刻工艺之一，基于多层光刻技术，能够对光掩码进行晶圆级控制。它非常适合在非常小或复杂的电路特性上创建分辨率低于10纳米的精确模式。光致抗蚀剂单元依赖于复合感光材料在特定表面上的光修饰的光学效应。这种感光材料是一层化学物质，包括光敏剂和显影剂。当暴露于特定波长的光时，光敏剂发生变化，而显影剂保持不变。在晶片上放置一个带有激光切割图桉的精确掩模，并使用特定波长的曝光来曝光感光材料。曝光后，晶片用显影剂处理，该显影剂改变暴露的感光材料，形成精确的图样。第二代光刻机具有很高的可靠性和可预测性，适用于各种光刻工艺。它提供了多种可定制的功能,包括全掩码库、简单的操作员编程、多位置掩码表、晶圆托盘可索引自动阶段、可编程曝光时间控制以及可访问的掩码配方库。OWENS DESIGN GEN 2还具有一个自动激光切片设施，可以用来将多个晶片分离成较小的碎片，以便进一步处理。此外,作为其最先进的诊断功能的一部分,该工具具有自动对齐资产和自适应焦点控制功能,以确保准确性和可重复的过程结果。总之，Gen 2光刻胶模型是可靠、精确、晶圆级光刻应用的有力工具。它为提高产量和生产时间提供了精确的模式，并通过其可编程特性显着降低了每晶圆的成本。