二手PURE AIRE(光阻)待售

"PURE AIRE"制造商提供的光阻设备是半导体和微电子行业的尖端解决方桉。它们提供了广泛的类似物,旨在满足各种应用程序要求并提供卓越的性能。"PURE AIRE"光刻胶系统的优点在于其高分辨率能力、出色的附着性能和卓越的耐化学性。这些单元可实现精确的阵列,并允许制造复杂的微结构。它们非常适合先进的光刻工艺，如深层紫外线和电子束光刻。UF72AE了一个来自"PURE AIRE"的光刻胶系统实例。它是一款具有优异分辨率能力的正光抗蚀剂，提供亚微米特征尺寸。UF72AE具有很高的灵敏度，允许快速处理时间。该系统改进了对各种基板的附着力，使其适用于广泛的应用，包括IC制造和MEMS制造。另一个例子是'PURE AIRE'负光刻胶系统，提供高对比度和分辨率。它非常适合需要制造高长宽比结构的应用，如微流体器件和光学元件。总体而言，"PURE AIRE"光刻机以其先进的性能着称，使其成为要求苛刻的微电子应用的首选。