二手 PVA 2000 #9293852 待售

PVA 2000是专为高通量光刻应用而设计的光刻设备。它是一种改进的光刻胶系统，提供了一种比传统光刻胶材料更可靠和一致的替代品。2000年的光刻工艺涉及使用光刻胶材料将图样转移到基材上。然后使用光致抗蚀剂在基板上创建一个微观特征模式。PVA 2000含有专有添加剂，旨在促进化学稳定性，减少光致抗蚀剂失效的可能性。通过消除可能对图样形成精度产生不利影响的残留物，提高了光刻工艺的效率。该单元强大的配方还提供了更多层次的保护,并增强了整个过程。2000年已制定为微观特征提供出色的分辨率。它非常适合各种底物，包括金属、聚合物和半导体。它在非常小的特征的光刻中特别有益，例如微电子所需的特征。光刻胶还具有较低的（光）溶解速率，能够对宽度较小的特征进行可靠的光刻。在吞吐量方面,PVA 2000旨在提供一致且可重复的过程,与其他光刻胶系统相比,吞吐量提高了3倍。这种提高的生产率使流程能够在一半的时间内完成,从而使其更快、更高效。2000机器的设计也考虑到了安全和环境要求。它是通过无害环境的工艺生产的，含有低挥发性有机污染物，没有HAP。此外，该工具与目前光刻的安全程序高度兼容，使其成为更敏感环境下的理想选择。总体而言，PVA 2000光刻材料为光刻提供了可靠和精确的工具。它提供了改进的过程可重复性、更高的吞吐量速率、增强的环境安全性以及改进的微观特征分辨率。这使得它成为精确的模式传递和微观特征制造的理想选择。