二手 PVA 6000 #9222892 待售

PVA 6000是佳能公司开发的一种光刻胶设备，用于创建分辨率极高的特征。它设计用于半导体晶片，是佳能在其超精密的抗蚀剂产品系列中开发的最先进的光致抗蚀剂。6000的主要特点是其High-NA HDR成像、紧凑曝光单元和佳能专有的ARTechnicaG系统。High-NA HDR （High Numerical Aperture High Depth Resolution, High Numerical Aperture HDR）成像技术确保了在旋转涂层、成像和蚀刻方面具有卓越一致性的极细特征的产生。紧凑的曝光单元可在清洁环境中提供出色的性能,并缩短曝光时间。ARTechnicaG单元通过简单界面控制的易于预先设计的曝光形状生成多种复杂模式。该机结合了佳能曝光单元和光刻工具的原生分辨率，具有40纳米子图样能力。PVA 6000在制作光掩模时允许了很大程度的灵活性。有了在次分辨率级别控制曝光区域的能力，既可以创建高精度的大型模式，也可以创建极高分辨率的密集模式。资产还为用户提供了广泛的曝光设置，可以针对各种各样的条件和材料进行定制。6000的全自动拒绝识别功能也更进一步。此函数可以检测缺陷模式并自动拒绝,从而减少错误并提高制造产量。总体而言,PVA 6000是一个显着的光敏模型.其令人印象深刻的特性清单，加上佳能在质量方面的长期声誉，使其成为半导体晶圆特性生产的绝佳选择。