二手 PVA 6000 #9241942 待售

PVA 6000是微电子工业中为高精度光刻设计的光刻设备。这是一种水溶性的，两部分，novolac为基础的光致抗蚀剂具有良好的附着力和灵敏度轮廓。其优越的性能和较长的保质期使得它成为制造半导体器件的首选。6000由一种主树脂和一组引发剂组成。这种resin¬†contains的新乳酸基丙烯酸酯聚合物，在暴露过程中能使强粘附抵抗。引发剂是光敏分子，吸收紫外线的能量，引起化学反应，使薄膜解聚。这种反应反过来在抗药剂上建立了一个正音图像。PVA 6000系统设计用于广泛的集成电路（IC）光刻应用。它1.6 µm的厚度使得它适合亚微米成像，允许更精细的图桉和更高的分辨率。该装置还具有对各种基板的出色附着力，从硅到介电层不等。此外，由于其化学成分和暴露条件的结合，其优越的敏感性可实现顶部均匀性和分辨率。6000还提供了较长的保质期,确保了高生产率和一致的性能。其低放气率也消除了冲洗以去除不需要的表面污染的需要。PVA 6000结合其防反射涂层和低摩擦性能，保证了卓越的图像质量和可重复性。总体而言，6000机是生产高精度微电子器件的绝佳选择。它可确保高分辨率、清洁、低缺陷的图像具有出色的均匀性。其保质期长，放气率低，使其具有很高的可靠性，而其优越的附着力与多种基材的结合，则可用于多种用途的应用。