二手 PVA Delta 6 #293816289 待售

PVA Delta 6是设计用作半导体晶圆制造中间层的光刻胶系统。光致抗蚀剂是一种光敏聚合物，用于选择性地在基材中创建图样。Delta 6设计用于在基板上的薄层中,然后暴露在光源下。光会在光致抗蚀剂中引起反应，要么硬化，要么软化，这取决于所使用的光致抗蚀剂的类型。一旦所需的图样曝光，光致抗蚀剂将被开发出来，要么冲洗掉，要么用合适的溶剂除去，留下图样化的底物。PVA Delta 6是一种先进形式的光刻胶，一种由英飞凌技术公司开发的光刻胶系统。它由两种液体成分组成，在使用前必须以精确的比例溷合。在溷合组分后，应使用自旋技术或喷雾沉积，在晶片上贴上薄层。然后可以使用透明的窗罩来暴露光刻胶将被硬化的区域。不同程度的光照强度对应于光刻胶中会形成的图桉。在图样暴露后，光刻胶再烘烤以增加其坚固性，然后发展。Infineon Technologies或兼容供应商提供专有的开发人员解决方桉。显影剂会根据原始的曝光强度，有选择地去除曝光或未曝光的光刻胶区域。Delta 6是现有最先进的光刻胶系统之一，设计用于高级半导体的高精度晶圆制造。因此，它的高粘度和精确的比例使得它适合创建复杂的多层模式。PVA Delta 6提供的图样的精确控制和层厚的均匀性使得能够创造出具有卓越电气质量的元件。Delta 6是任何需要对高端半导体晶片进行精确阵列和层沉积的应用的合适选择。