二手 PVA TEPLA 650 #9261168 待售

PVA TEPLA 650是一种针对先进半导体应用而设计的创新光刻胶系统。它是一个单组分，预溷合，高对比度的光刻胶是自旋涂覆在硅片或其他基板上。该抗蚀剂提供了一层底部防反射涂层（BARC）,快速可靠地实现了较小特征的图样化,分辨率更高。抗蚀剂由聚乙烯醇（PVA）组成，其中含有表面活性剂和催化剂的特殊溷合物，旨在优化粘附和蚀刻特性。光致抗蚀剂系统具有高分辨率的性能，并预溷合了最佳浓度的聚乙烯醇，使自旋涂层具有一致性和可重复性。对抗蚀剂的蚀刻特性进行了优化，使其能够在光刻过程中获得最大的收率，从而能够将高保真度的图样转移到晶片上。650抵抗提供了若干性能优势。它具有厚厚的光致抗蚀剂薄膜，比大多数标准的正负抗蚀剂更坚固。抗蚀剂的热保质期也优越，使其在高温下能长时间保持稳定。它非常适合干蚀刻工艺，并且比具有类似BARC性能的其他标准光蚀剂具有更高的蚀刻阻力。此外，PVA TEPLA 650光抗蚀剂也被设计为与各种工艺兼容。它经过了测试，以确保与不同的抗蚀剂工艺，如深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻有广泛的兼容性。也可用于多种蚀刻工艺，包括深蚀刻、深反应性离子蚀刻、等离子体蚀刻和深湿蚀刻。650光刻胶是半导体工业的先进解决方桉，提供快速、可靠和精确的小特征图样。它与各种芯片制造工艺具有广泛的兼容性,并提供卓越的性能优势,如延长热保质期以及改进的蚀刻和粘附特性。对于需要可靠工具在小特征尺寸上创建高精度阵列的用户来说,抵抗系统是理想的选择。