二手 RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A #293643207 待售

CETC BG-401A研究所是一种高度先进的光阻设备，其设计目的是能够将图样精确地转移到半导体和玻璃基板上。光致抗蚀剂是一种光敏材料，用于在诸如集成电路等蚀刻设备中制作高精度图样。它通过在暴露于光线下产生化学反应而起作用。BG-401A以高度的分辨率和精确度，简化了一系列材料的光刻胶工艺，例如散射、硅和聚酰亚胺。该系统针对图样成像中具有高通量的紧密公差成像进行了优化.它配备了两个平行的激光束扫描头，每一个都提供了连续的激光能量波，允许大的扫描区域被快速处理。内置的图像处理软件执行高级图像处理,以确保将图样精确地传输到基板上,从而实现高产率,并最大限度地减少返工和报废。CETC BG-401A研究所还解决了等离子体放电问题，这是光刻系统中常见的一个问题，可能导致蚀刻不一致和不规则性。其独特的气体动力聚焦单元通过确保激光光束每次到达抗蚀剂中的精确点来抑制等离子体放电。比传统的光掩模更高效、更简单，BG-401A是一种强大的替代模式抗蚀剂。其耐弧侧壁确保残留物更加均匀，确保更可靠和可重复的设备性能。其热力学特性，如高温能力，确保加热的抗蚀剂在成像过程中行为可预测，每次都提供一致的结果。垂直和水平可调平台提供了进一步的灵活性，允许各种尺寸和形状的基板进行精密处理。该机还配备了可视化操作接口和多层快速交换功能。此函数会自动快速地选择相同材料的层,从而无需每次手动设置模式。总体而言，CETC BG-401A研究所是一种先进、先进的光致抗蚀剂工具，旨在使制图过程更容易、更快、更可靠。凭借其先进的功能,它提供了一个简化且经济高效的解决方桉,用于在需要更改模式的设备中制造高精度阵列。它非常适合任何需要生成复杂、准确和可靠模式的应用程序。