二手 RHETECH STI 280 #17375 待售

RHETECH STI 280是由RHETECH Technologies开发的光阻设备。它是一个完整的系统,包括相关的软件、硬件和消耗品。该单元由投影组件、UV源和光敏蒙版组成。投影组件具有三孔设计,允许多层光敏遮罩。UV源可提供高达5瓦的强烈UV光,可用于在掩模上生成阴影图像。面罩材料是对紫外线敏感的高度专业化、一致稳定的聚合物。蒙版设计为多次使用,性能相同。当暴露在紫外线下时，蒙版的暴露区域变得不溶解且无反应性，这有利于蚀刻。机器的相关软件功能强大，直观，允许设计进入，验证和模拟成像过程。软件还可以提供整个设计的实时预览，以验证成像过程。利用此实时预览功能,用户可以调整参数以改善成像结果。软件还允许自动生成模式。这有助于减少设计光掩码所需的时间,并提高所生成图样的准确性。该工具的消耗品包括用于曝光和开发的光敏面罩。该面罩设计为具有最佳的光学性能和粘附强度。为了优化性能,必须遵循建议的工艺标准,例如使用为特定源强度设计的薄膜,采用非接触式处理技术,以及使用适合应用程序的液体显影剂解决方桉。STI 280是先进的光刻胶资产，为中小型生产提供了经济高效的解决方桉。高性能和用户友好的设计使其成为光刻、打印机图样和电路板等应用的绝佳选择。其多才多艺的设计也使其适合广泛的影像应用。