二手 RHETECH STI 280 #9292510 待售

RHETECH STI 280光刻设备是用于半导体器件创建的创新系统。本单元由湿加工机和等离子体蚀刻工具两部分组成。湿加工资产利用多种液体化学工艺沉积、开发、去除光致抗蚀剂。等离子体蚀刻模型用于蚀刻光刻剂，以便将所需的设计成型到基板中。湿处理设备的目的是将光刻胶沉积在基材上。这是通过一系列的化学过程来完成的，如自旋涂层、喷涂涂层、浸涂层和真空沉积。这些过程协同工作，在材料上涂抹一层均匀的光致抗蚀剂。一旦光致抗蚀剂被应用到基板上，就会使用光掩模在光致抗蚀剂上创建图样。遮罩随后暴露于光中，并激活光可以到达的光致抗蚀剂。暴露的区域变得更易溶解，可以用合适的溶剂去除。未曝光区域中的光致抗蚀剂保持不变,并保持其原始状态。然后使用等离子体蚀刻系统从基板上蚀刻光致抗蚀剂，以产生所需的设计。这是通过将底物暴露于含有合适反应性气体的等离子体中来完成的。气体与暴露的光致抗蚀剂反应形成自由基，然后在选择性区域蚀刻掉光致抗蚀剂。STI 280光刻装置是制造半导体器件的重要工具。这台机器允许按照精确的规格创建设备，而不会受到污染或流血的危险。它是生产质量最高的半导体元件的可靠且价格合理的工具。