二手 SANYU SC-701C #201213 待售
网址复制成功！
ID: 201213
Sputtering system with cryogenic stage
Manufactured for large-chambered JEOL 5000 or 6000-series microscopes
Sputter coat and freeze specimens immediately before load-lock
Carbon holder Cartridge type
Number of coatings One to nineteen
Coating time 0.3sec/1time
Carbon 5mm dia.Five pieces made by SANYU ELECTRON provided
Chamber size 160mm dia.x160mm in depth
Electrodes One pair
Current MAX. 70A, 12V
Input power 100V, 15A, 50Hz/60Hz
Evacuation system Rotary pump. 100l/min
Vacuum degree 10-3 Torr
Sub-systems:
Bio-Rad Crytrans Controller
Bio-Rad E7400 Sputtering or Evaporation Module
Maxtek Thickness Monitor
Hexland Temperature Control
Dual pumped vacuum system.
SANYU SC-701C是一种高精度光刻设备，专为从紫外线光刻到X射线光刻等多种应用而设计。光致抗蚀剂是一种绝缘材料，用于将电路模式蚀刻和传递到半导体晶片上。它有一种光敏涂层，将光转化成图样化的化学反应，可以在底物上产生所需的图样。SC-701C是为用户提供卓越的性能和多功能性在一个紧凑的封装。它有一个内置的高分辨率投影仪和boarder增强系统的图像精度。双轨旋转装置提供均匀曝光，具有5度倾斜，以更好地控制曝光。该机还具有一个完全计算机化的控制面板，自动聚焦和可调曝光时间。SANYU SC-701C能够产生极其精确的图样,图像单元分辨率高达1 µm。它与广泛的光刻材料和蚀刻溶液相容，可用于蚀刻硅、砷化的半导体材料。该工具还通过认证,可以使用各大制造商提供的最新抗蚀剂。SC-701C易于操作和维护,非常适合多用途的光掩蔽需求。它的高分辨率投影仪、自动聚焦和可调节的曝光时间使您能够快速准确地创建SEMI和JEDEC标准的光掩码。它与传统的PMMA抗蚀剂和正负工艺相兼容，适用于各种加工工艺，如蚀刻和转移。其紧凑的设计也使得小而紧凑的空间或高投入的生产操作都易于使用。SANYU SC-701C是一种理想的光刻胶资产,适用于广泛的应用领域,提供卓越的性能、多功能性和精确度。它的高级功能使您能够轻松地创建精确的图桉,并控制曝光时间和投影仪。此模型将为任何生产车间提供有价值的补充,因为它为复杂和严格的光掩码需求提供了理想的解决方桉。
还没有评论