二手 SCL CD 400 #9022280 待售

SCL CD 400光刻设备是用于生产复杂半导体结构的强大工具。它旨在通过抗蚀剂的精确分辨率和可以达到的精确深度和宽度来创建特征大小较小的复杂结构。该系统用于光刻工艺，利用光照和蚀刻工艺将掩模图样传递到硅片等基板上。CD 400光抗蚀剂单元由多个组件组成，包括光刻步进器、辐射计、遮罩机和加热工具。步进器使用成像光学资产，其中包括光源、透镜、镜子和滤镜，以精确投影蒙版图桉到基板上。辐射计用于测量光照量和监控多个进程运行过程中的照射。遮罩模型由光滤镜、对准遮罩和遮罩架组成。最后，加热设备由热板和烤箱组成，用于在加工过程中精确设置和维持基板温度。SCL CD 400使用对紫外线辐射敏感的光刻胶。光致抗蚀剂被施加到基板上，面膜被投射到其上。来自光源和成像光学系统的辐射通过掩模传输到光阻剂上，抗蚀剂在光线撞击的地方溶解。将图样暴露在光刻胶上后，进行曝光后烘烤，将图样置入抗蚀剂中，准备进行蚀刻。CD 400中使用的抗蚀剂具有非常精确的厚度能力，范围在几十纳米。成像光学单元和辐射计具有0.5微米的分辨率,能够创建宽度和深度可达0.5微米的特征尺寸的设计。这允许使用其他光刻方法创建非常复杂的几何形状。SCL CD 400光刻机为半导体器件制造提供了可靠、精确的工具.它在分辨率、深度和宽度能力方面高度通用，为工程师和科学家开发日益复杂和错综复杂的模式提供了强大的平台。