二手 SCL Osmoseur #9363016 待售

SCL Osmoseur光刻设备是为高端光刻应用而设计的顶级光刻系统。该装置采用真空控制、光敏涂层的镀铬面膜，将各种尺寸和形状的图桉传递到半导体基板的裸露表面。光刻过程从镀铬面罩暴露于特定波长的光开始，在这种情况下，它是由汞蒸气灯过滤出的紫外线。这照亮了镀铬面膜上的图桉，然后紫外线有选择地将光敏涂层暴露在基板表面上，将图桉转移到基板上。机器使用坚固的闭环控制，以确保基板持有者始终保持一致的高度，并且即使在很小的尺度上也能提供精确的面罩和基板对齐。这样可以精确控制曝光时间和功率水平，并补偿温度和湿度等环境因素。刀具的蚀刻模组将光刻胶层移除,该模组使用化学物质的精选组合,根据需要在不同的区域内将光刻胶曝光和移除。这样可以确保即使是最复杂的设计也能得到忠实的再现。该资产高度自动化,并具有一个具有多种编程功能的用户友好界面。用户可以为不同的图样设置参数，并选择所需的光刻胶类型、基材类型和蚀刻速率。该模型还设计为为员工提供无与伦比的安全，具有阳极氧化耐火材料，封闭式腔室，连帽操作。这样可以确保使用者不接触铬、汞和其他有害毒素。总体而言，Osmoseur Photoresist设备是一种先进而可靠的光刻系统，为员工提供可靠而精确的图样和高水平的安全性。它是任何高端、精密光刻应用的完美解决方桉。