二手 SCREEN RF3 #293586632 待售

SCREEN RF3光刻设备是一种最先进的显影设备,用于图样传输光掩模,用于薄膜微电路的制造。该系统提供优于传统光刻工艺的性能。RF3光电装置有一个48英寸直径的holotablet与一个强大的电子刚化机。这允许抵抗材料相对于掩模图像的高精度对齐，这对得到的图样的分辨率有直接影响。该工具还提供了抗蚀剂厚度和轮廓的自动测量，从而能够准确控制开发时间。光刻过程包括使用SCREEN RF3的光学表将光掩模与基板对齐。然后紫外线通过遮罩照射到基板上，在基板上被光刻胶吸收和修饰。当光致抗蚀剂暴露后，抗蚀剂和光之间的反应产生化学变化，产生所需的微电路图样。一旦曝光，就必须将光刻胶显影并蚀刻掉，露出微电路图桉。RF3资产还具有一种改进的抗辐照光抗蚀剂。这种新型的光刻胶材料比传统的光刻胶具有更低的热膨胀系数和更高的热稳定性。这样可以减少显影和蚀刻过程中的失真,从而获得更高的分辨率和更高的收率。此外,SCREEN RF3模型能够测量光刻胶层的厚度和最终的图样尺寸,精度高达0.1微米。这种精度水平允许在高密度微电路中实现卓越的性能,在高密度微电路中,制造复杂电路需要时间和精力。总体而言，RF3光刻设备是用于薄膜微电路制造的通用工具。与其他光刻技术相比,它提供了卓越的性能和准确性,并允许以经济高效的方式生产高密度、高性能的微电路。