二手 SCREEN RF3 #9309659 待售

SCREEN RF3是一种光刻设备，用于在半导体晶片上绘制精确的图样。这种光刻胶系统采用液相氨基粘附促进剂和高性能光刻胶材料进行曝光。该单元结合了尖端技术和精确的自动化控制技术，以提高过程的重复性。光致抗蚀剂机器由一种抗蚀剂溶液组成，该溶液被施加到晶片上，从而形成一层薄而均匀的层。该层由多层薄膜组成，这些薄膜由光刻材料、抗反射涂层和粘附促进层组成。粘附促进层是一种液相材料，用于在光致抗蚀剂和底物之间提供强粘附。晶片暴露在紫外线下，光致抗蚀层发生反应，被能量化学搅拌。这种搅拌使抗蚀层中的聚合物分解，使现有的薄膜得以分散，并从将绘制图样的区域中除去。在没有发生暴露的地方，抗蚀剂被保留并保持坚固。使用RF3光刻胶工具为制图过程提供了更高的整体效率和可重复性。资产中使用的自动化控制可确保过程可重复性在多个晶圆之间统一一致。由于该模型能够很好地控制沉积模式，它还提供了优越的特征分辨率和高密度的模式。总体而言，SCREEN RF3设备是一种功能强大且可靠的半导体应用光刻系统。此单元采用高质量的材料和先进的自动化技术来提高过程的可重复性,提供统一的阵列,并允许高密度特征分辨率。因此,它可以提高半导体工艺的生产率,降低成本并提高效率。