二手 SEC BEP-2708 #9398877 待售

SEC BEP-2708是三星电子有限公司开发的光刻设备。它是一种用于显微光刻应用的高性能、低成本的可照相材料。该系统由几个组件组成，所有这些组件对于成功生产复杂的微电子设备，特别是具有超细特性的微电子设备至关重要。BEP-2708的关键组成部分包括：光敏薄膜、基板、曝光工具、显影硬化装置。光致抗蚀剂薄膜是一种对光敏感的聚合物材料。它通过自旋涂层应用于基板上。胶片迅速蒸发，留下了想要的图像。当光线照射到胶片上，将图样投射到基板上时，图像被精确地保留。与传统的SEC BEP-2708相比，SEC提供了更好的图样厚度，从而提供了更好的蚀刻和表面平面性能。基材是一种材料，在其上施加了光致抗蚀剂薄膜。它可以是两种材料之一：SILK或氮化物。SILK是由化学蚀刻层组成的硅酸盐基质，提供CMP均匀性和可变表面保护。氮化物是氧化硅碱基层，然后用氮化硅膜覆盖。这种基板提供了更好的蚀刻特性和改进的平面。曝光工具用于光刻机中，因为它对于精确的想象至关重要。它利用强烈的光束将图像投射到光刻胶上。通常,BEP-2708使用深紫外线、X射线或电子束工具曝光。该工具还利用其先进的模内增强技术，为其产品提供更好的图像清晰度和更高的分辨率。光刻胶资产曝光后，由开发硬化模式接手。这包括干湿开发部分。湿法开发涉及使用化学溶液去除未暴露的光致抗蚀剂。为了干燥发展，氧气等离子体或臭氧系统被用来治愈硬化的图像。然后，硬化的光刻胶被另一层保护层覆盖，通常是SiN基板膜，这有助于提高蚀刻性能和表面平面度。SEC BEP-2708为需要精确图像的微光刻应用提供了一个高性能、低成本的解决方桉。凭借其先进的部件及其精细集成的工艺，设备产生了复杂的图样，厚度和均匀性超过了替代光刻胶系统所提供的。因此，对于那些寻求生产高质量、高精度微电子器件的人来说，它是一个理想的光刻系统。