二手 SEMES EKPS-01 #9352140 待售

SEMES EKPS-01是一种化学放大正光刻设备，用于制造集成电路和其他相关微电子器件。光致抗蚀剂一般由光敏聚合物薄膜组成，该薄膜被涂覆在基板上，使用光源图样，然后发展成图样图像。EKPS-01是一种经济的光刻胶系统，它提供了更高的溶液稳定性，更好的附着力和分辨率，以及比类似系统更好的轮廓。该机组的主要部件是光刻胶的底层和中间层、屏障层以及光刻胶的顶表层。底层由聚酰胺酰亚胺聚合物促进与基板的粘附组成，而光刻胶的中间层和顶层则由交联聚酰亚胺聚合物组成，该聚合物具有优异的分辨率和耐蚀刻性能。屏障由聚酰亚胺组成，以阻断氧气/水分入侵。这种结构有助于提高附着力，并允许在设备制造过程中更高分辨率的图样。这种光刻机的主要优点是其出色的分辨率。SEMES EKPS-01能够产生小至0.1 µm的特性，这对于高端电路应用很重要。此外,该工具还提高了稳定性,最大限度地减少了制造过程中的浪费,并减少了周期时间,从而节省了时间。EKPS-01的粘合特性有助于最大程度地减少图样加工过程中的裂纹或剥落。SEMES EKPS-01资产提供化学放大（CA）过程,在保持高分辨率的同时提高曝光过程的灵敏度和速度。CA过程通过水溶液进行，涉及两个成分：酸发生器和稳定剂。酸发生器在光活化阶段提高灵敏度，稳定剂防止过早发育。此过程是有益的,因为它显着缩短了周期时间,同时提高了图像质量。由于其出色的分辨率、更好的稳定性、出色的附着力和化学放大工艺，EKPS-01光刻胶模型是电路制造的理想选择。其先进的功能可提高分辨率和耐蚀刻性能,在广泛的应用条件下提供卓越的性能。