二手 SEMES KPS-60V #9265100 待售

SEMES KPS-60V光刻设备是一种高性能系统，旨在创建用于多种工业应用的光掩模，包括微电子生产。在高分辨率真空蒸发装置的基础上，KPS-60V能够以均匀和可重复的方式沉积光敏（抗蚀剂）材料，从而产生具有极精细特征的高度精细的光掩模。SEMES KPS-60V机的主要优点之一是能够将感光材料以极高的精度沉积在硅片、基板和其他材料上。在沉积过程中涉及两个截然不同的部分：真空热蒸发单元和光阻处理单元。真空热蒸发装置负责光敏材料的均匀沉积，能够产生极均匀的光敏材料堆积，最小特征尺寸为0.1微米。Photo Resist Processing unit包括一系列附加组件,例如用于检查光掩模薄膜质量的内置光头、用于在材料中创建光掩模图样的激光写入器,以及用于精确地将详细特征应用于光掩模的高效光刻工艺。此外，KPS-60V还能够微调光掩模加热蚀刻工艺，达到最佳效果。SEMES KPS-60V资产的主要焦点是它能够产生非常精确的、细节极其精细的光掩码。这是通过对光刻胶沉积过程中的真空过程进行高度精确的监测和控制来实现的。利用极快的响应时间来调整参数,KPS-60V能够在整个光掩模生产过程中保持最高的效率水平。总之，SEMES KPS-60V光刻胶模型是一种高度先进的设备，其设计目的是制造具有高精度特征的极其精确的光掩模。它结合了真空热蒸发装置、激光写入器和光刻工艺，使其成为光掩模生产技术的行业领导者。该系统的高级控制和快速响应时间确保能够可靠地、快速地创建高精度和详细的光掩码。