二手 SEMES STH5320H #9298975 待售

SEMES STH5320H是用于制造微电子器件的最先进的光刻设备。该系统包括一个光源，用于将光刻胶薄膜的暴露区域暴露于能源，以及用于制造晶片级、旋转器、气体歧管和排气装置等各种部件的其他设备。该机器能够处理各种光刻胶，包括干性和液性薄膜，具有各种厚度和表面处理。这种精密的工具有助于确保只有光刻胶所需的部分被曝光和开发，从而产生更精确和精确的微电子元件。资产的主要成分是光源、能源和晶圆级。光源通常是一个紫外线光源，光刻胶膜暴露在其上。这种光源可以在强度上变化，以确保根据使用的光刻胶类型和薄膜的厚度实现适当的曝光。能源一般为真空源，真空范围为0.5-10 Torr。一个强真空是必要的，以除去空气分子从表面的光致抗蚀剂，允许膜的暴露部分发展。与能源一起，模型还包括一个气体歧管，为开发过程提供可控水平的气体。晶片级允许光刻晶片在加工周期中精确移动。这些阶段使晶片能够在光源上移动并提供光滑和均匀的曝光。这些阶段配备了可重复、高精度的位置控制，允许精确蚀刻和曝光结果。一旦达到所需的曝光度，就使用旋转器将显影的光致抗蚀剂晶片涂覆，并将抗蚀剂均匀地分散到晶片上。该设备还包括一个内置的可调排气系统，以确保适当的空气流通，并清除光刻胶加工周期内产生的任何危险烟雾或蒸气。该单元还有助于保持光刻胶加工区的恒温，保持光刻胶开发的最佳条件。综上所述，STH5320H是一种专为制造微电子器件而设计的强大的光刻机。该工具能够精确精确地曝光各种光刻胶薄膜，具有各种厚度和表面处理。资产包括光源、能源、气体歧管、晶片级、旋转器和排气模型，所有设计都是为了确保光刻胶的适当开发和光刻胶在晶片上的统一应用。此外，设备还可根据最佳空气流通和温度进行调整，提供安全规范的工作环境。