二手 SEMICON LHB-3100 #9117937 待售

SEMICON LHB-3100是一种用于光刻工艺的高精度光刻设备，用于先进的IC制造。该系统用于创建抗蚀刻光敏蒙版,用于将图样传输到基板上以形成IC组件的结构。LHB-3100的关键部件是其高分辨率成像单元、抗蚀层涂层机和抗蚀层开发工具。成像资产使用投影透镜将所需的图样详细投影到基板上。抗蚀性涂层模型然后用一层薄薄的光致抗蚀剂涂覆基板，这层光致抗蚀剂被设计成可以被光线暴露。抗蚀剂开发设备使用专门的显影剂有选择地蚀刻抗蚀剂面罩的裸露区域，使未暴露的区域完好无损，形成抗蚀刻的防护面罩。SEMICON LHB-3100的设计是为了满足先进的IC制造的需要，因为它的高分辨率成像系统可以达到高达0.8 µm的最小特征尺寸。它还提供高达15个线对/毫米的精湛分辨率,提供清晰的图像分辨率和对生成的图样的出色控制。此外,该设备的曝光时间可高达300毫秒,从而消除了曝光后延迟的需要。其耐涂层和开发系统有助于减少微缺陷并确保准确性。LHB-3100还为高级IC制造提供了几个突出的功能,如基板的自动加载/卸载、优化的迭加配准和自动聚焦诊断。此外，它的过程控制窗口提供了方便的过程跟踪和监控。总体而言,SEMICON LHB-3100是一款用于IC制造的出色光刻机,具有出色的成像质量,具有清晰的分辨率和准确性、卓越的性能以及可靠的编程。它采用了对下一代IC生产至关重要的高端技术特性,非常适合IC制造商寻求一种强大而精确的光刻工具。