二手 SEMIGROUP PP-1000 #9124952 待售

製造商
SEMIGROUP
模型
PP-1000
ID: 9124952
RIE system Microprocessor control: 12" parallel plate RIE both lower and upper electrodes are temperature controlled Lower electrode: up to 450 Degrees C Upper electrode contains a shower head for gas delivery Power supply: 208 V, 30 A.
SEMIGROUP PP-1000是一种负光刻设备,主要用于印刷电路板(PCB)的生产和其他微电子应用。它由一种光致抗蚀剂组成,该光致抗蚀剂由施加在基板上的光敏膜组成。当暴露在紫外线下,光致抗蚀剂会变硬,不溶于开发溶剂。图像开发完成后,光致抗蚀剂可以使用溶剂从基板上除去,使金属电路暴露在外。PP-1000是一个负敏化系统,意味着底物的暴露区域在光线照射时变硬,而未暴露的区域反应性较小,可溶于显影溶剂。这个单元包括一个光刻胶,一个活化剂,在某些情况下,一个曝光后烘烤。当暴露在纯紫外线下,光致抗蚀剂被硬化,不溶于正在发展的化学物质。图像完全显影后,光刻胶可以从基板上剥离。这种工艺被用于许多PCB生产工艺中,用于形成焊膜、导体侧面干膜和镀层通孔。用于SEMIGROUP PP-1000的光刻机需要与将打印在基板上的金属层兼容。光致抗蚀剂应具有促进金属层与基板粘附的能力。另一个要考虑的重要因素是光刻胶的保质期,应大于三个月,以确保光刻胶在处理过程中仍然完好无损。PP-1000使用的活化剂是常规的浸干法。这种活化剂可以在光照前应用于基板,以活化光敏材料。在某些情况下,还可能需要经过曝光后烘烤才能使光刻胶完全硬化。这种烘烤可以根据要求在一定的温度和时间下进行。最后,SEMIGROUP PP-1000工具是主要用于生产多氯联苯和其他微电子应用的负光抗蚀剂资产。它由一种光致抗蚀剂、活化剂以及在某些情况下的曝光后烘烤组成。当暴露在紫外线下,光致抗蚀剂会变硬,不溶于开发溶剂。图像开发完成后,光致抗蚀剂可以使用溶剂从基板上除去,使金属电路暴露在外。
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