二手 SEMITOOL 260F #9229806 待售

SEMITOOL 260F
製造商
SEMITOOL
模型
260F
ID: 9229806
晶圆大小: 5"
Spin Rinse Dryers (SRD), 5".
SEMITOOL 260F是一种全自动干蚀刻设备,设计用于半导体晶片上的蚀刻面罩/光阻层。该机允许对氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝等各种材料进行高性能蚀刻的多个蚀刻参数进行精确控制和管理。260F配备了自旋蚀刻卡盘,它使用非接触式低频溅射来以最高精度蚀刻表面。这种受控的纺纱有助于减少碎片形成的发生,同时也在整个晶片表面保持均匀的蚀刻轮廓。此外,还与机器集成了晶圆监控系统,以确保蚀刻过程的准确性和可重复性。该机采用双质量气体输送装置,由高压直接喷射器和低压喷射器组成。前者用于提供高流量的清洁干燥蚀刻气体,而后者则可提供更高浓度的蚀刻气体,从而实现更高效的蚀刻。双质量机能够提供湿蚀、深蚀刻、钝化、栅极蚀刻等各种蚀刻工艺。此外,SEMITOOL 260F还集成了流程控制和优化工具,如流程监控和自动配方控制。自动配方控制功能允许完全可定制的配方,允许优化蚀刻参数以匹配特定的设备规格。过程监视功能通过监视关键蚀刻参数(如温度、过程时间、压力和气体流率)来帮助确保过程的可重复性。总体而言,260F是对半导体应用中的各种材料进行高精度蚀刻的理想光刻蚀刻工具。它提供了一种健壮且可重复的蚀刻工艺,对温度、压力、气体流量、工艺时间等多个蚀刻参数进行精确控制。它的综合过程监测和优化工具为确保过程的可重复性和质量提供了必要的工具。
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