二手 SEMITOOL 270 #200803 待售

SEMITOOL 270
製造商
SEMITOOL
模型
270
ID: 200803
晶圆大小: 4" or 6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4" or 6".
SEMITOOL 270光刻设备将先进的湿洗技术与先进的液晶显示屏相结合,在光刻领域提供无与伦比的性能。该系统旨在以精确的精度和均匀性处理难以置信的薄层光刻胶,使制造商能够生产线宽和特征尺寸非常细的晶片。270单元围绕湿清洁工艺建造,利用溶剂轻轻溶解来自光刻胶层的污染物。这台高效的机器在每个连续循环之间自动清洗基板,确保光刻胶在整个操作过程中保持稳定和均匀。液晶屏允许用户在整个过程中查看和监视精确的光刻胶厚度水平,提供额外的控制级别。SEMITOOL 270还包括一系列高级工艺,如去除边缘珠、蚀刻和曝光后烘烤增强功能。当使用光致抗蚀剂时,去除边缘珠特别重要,因为它可以防止沿基板边缘的不均匀。执行蚀刻以有选择地从晶片顶部移除不需要的层。最后,利用曝光后烘烤阶段更好地将光刻胶粘合到基材上,防止升空等问题。总体而言,270光刻工具是一个极好的选择,任何设施寻找一个简单,可靠的光刻处理方法。这一资产为用户提供了对光刻胶厚度水平的全面控制,确保了一致性和准确性。凭借其先进的工艺和液晶显示屏,制造商能够生产线宽和特征尺寸非常精细的晶片。这种模式也具有成本效益,运营成本低,前期成本低。
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