二手 SEMITOOL 280 #101472 待售

SEMITOOL 280光刻设备是用于先进半导体器件制造的下一代光刻平台。该系统旨在提供高分辨率成像和超精确的抗蚀剂开发,支持生产最先进的电子元件。280使用电子束曝光单元，而不是传统的抵抗处理常用的光学曝光系统。这样可以更精确地控制抗蚀剂阵列和最终的设备结构,与光学系统相比性能更好。再者，电子束曝光机有非常大的动态范围，允许它在整个基板上成像不同大小的特征。电子束曝光工具还能实现高长宽比，以及亚µm的特征图桉。因此,输出图像的质量和保真度最高。该资产还具有自动抗蚀剂开发模型,允许可复制、精确的薄膜厚度和材料去除。此功能可确保每一个通道都能准确地产生所需的设备特性。SEMITOOL 280包括一项专利的自旋抗蚀剂涂层技术,允许快速均匀地涂覆基板。这允许准确和可重复的设备功能大小和放置在基板内。此外，该设备能够装载和卸载多个基板，从而能够大规模生产复杂的设备。280的数据处理和控制能力是系统的另一个优势。为设备的集成和控制以及缺陷检测和纠正提供了软件。该软件用于管理从图像采集到抵抗涂层、抵抗曝光和开发的整个过程，到在基板上放置特征。该软件允许根据需要调整曝光和开发参数，以便优化流程的每个步骤。总体而言，SEMITOOL 280光刻机是一种功能强大且用途广泛的工具，用于大批量生产先进的半导体器件。280利用其电子束曝光工具、自动抗蚀剂开发和数据处理功能,提供了精确、可重复的抗蚀剂处理,与传统光学资产相比效果更好。