二手 SEMITOOL 280F #9105785 待售

SEMITOOL 280F是为化学机械抛光（CMP）、晶圆平面化和后CMP湿蚀刻清洗工艺而设计的光刻设备。系统的高级功能和软件为用户提供了易于操作和一致的过程性能。该装置配备了精确、长寿命的复合柱塞配电机，用于各种光刻材料。它还具有一个用于安全维护和操作的联锁门工具、一个用于控制过程温度的校准次环境通气室以及一个用于使用点控制和数据记录的车载计算机。280F资产具有符合人体工程学的设计，便于维护和工具校准。模型的模块化设计允许用户轻松扩展配置以满足不断变化的需求。它还包括标准和现场自动化的安全措施，例如危险材料管理设备、消除灰尘和空气中颗粒的密封环境以及增强系统安全的氮气清除能力。SEMITOOL 280F为手动、半自动化和全自动的CMP流程提供了广泛的功能和选项。该装置有一个高效率的物料泵，以固定速率输送化学物质，用于送料的温度控制，以及用于精确控制基板堆栈的可调速度带。此外，它支持预湿/后冲洗晶片清洁操作。该机还包括一个便于罐装的自动填充站和一个晶圆跟踪工具，以确保精确的晶圆处理。280F资产还提供了市场领先的型号升级选项。随着升级，用户可以访问增强的功能，如集成的光学传感器用于晶圆检测和流量控制。此外,该设备还提供用户友好的图形用户界面（GUI）、基于软件的流程设置和优化,以及通过控制器链接多个单元的能力。综上所述,SEMITOOL 280F光刻胶系统为用户提供了先进、符合人体工程学和安全的设计,并为手动、半自动和全自动的CMP流程提供了多种功能和选项。它具有高效、精密的物料泵、送料用的温度控制、精确基板运动用的可调速度带，以及用于增强单元性能的集成光学传感器和流量控制。机器还提供用户友好的GUI、基于软件的流程设置和优化，以及通过控制器链接多个单元的能力。