二手 SEMITOOL 280S #9255444 待售

SEMITOOL 280S是一种用于晶圆制造工艺的光刻设备。该系统可用于曝光和开发化学放大光刻胶，是光刻工艺的理想选择。该单元针对HDRIP（高密度释放压印）工艺进行了优化,能够提供高精度的抗蚀剂轮廓,分辨率为0.5微米。该机配有先进的紫外线照相机，可集成到工艺控制中，对光刻工艺进行持续监测和评估。该工具有一个配有两个透镜和一个冷凝器透镜组件的光学组件。光学组件安装在精密的高分辨率定位台上，可实现XY方向的高精度移动。舞台在Z轴上也是可编程的，能够精确对准掩模和较低的镜头，以及对焦控制。资产还有一个用于装卸口罩和基板的全自动口罩盒式磁带，以及一个基板对准模块，能够精确调整位置和方向以提高准确性。此外，它还具有自动基板卸载功能和带条形码读取的机器人晶圆处理功能。光刻胶开发模型使用批处理方法，是光刻胶加工的单室设计，使得为适当的抗蚀剂化学量身定制的大量可用配方设置成为可能。该设备具有标准的sogginess系统，该系统具有清洁气体装置、薄膜测量机以及可调节的温度和压力设置，可用于精确的sogginess开发。除了传统的光刻和沉积系统外，280S还具有底部防反射涂层（BARC）模块，可用于在晶圆底面沉积抗反射层，以降低表面反射率和提高性能。该工具还可用于开发后的处理，如烘烤、酸痛去除、氧气或氮气退火。资产的软件控制模型允许用户定制开发配方，监控整个过程。它还有一个远程诊断和修复设备,可以从任何具有Internet功能的计算机访问,以诊断问题并进行远程维护。整个过程可以通过简单的图形用户界面进行控制和监控。总体而言，SEMITOOL 280S是一种功能强大的光刻系统，能够在0.5微米的间距范围内进行精确的聚焦控制，产生高质量的光刻。它配备了一个高度先进的自动化晶片处理单元和一个精密的UV摄像机，用于过程监测和评估。该机还可用于开发后的处理，如酸痛去除、烘烤、退火等。此外，它还有一个模块化的软件工具，可以定制以优化特定抗药性化学的结果。