二手 SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP #9178866 待售

SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP Photoresist Equipment是一个全自动和集成的化学和处理单元,用于应用光刻胶材料。每个会话最多可处理5个115mm晶圆。该机配备了一系列独立的、可编程间的工艺室，包括外部化学供应柜、用户控制的可编程大气控制、射频发生器、PR喷涂站和快速热固化系统，所有这些都安装在一起，以创建一个功能齐全的处理单元。光致抗蚀剂过程从预处理室开始，预处理室的设置是为了预处理晶片的表面。这就需要清洗晶片，以清除在使用抗蚀剂材料之前可能存在的任何颗粒、氧化物和/或污染物。预处理室提供化学控制和各种清洁溶液和蚀刻剂的精确输送，以实现光刻胶的最大附着力，这取决于基材类型。然后将光致抗蚀剂喷洒到PR喷涂站的晶片上。喷涂站设有电动精密喷雾器、变频射频发生器和可与外部加热器耦合的加热空气干燥室，以更好地控制抗蚀膜的干燥时间。射频发生器用于控制光刻胶的沉积以达到均匀性。一旦光致抗蚀剂被应用和干燥，晶片被转移到快速热固化（RTC）单元。这个单元配备了一个集成的加热器单元和一个带有可调定时程序的单室，用于精确控制固化过程。RTC机器的工作原理是精确调节每个应用程序晶圆的温度。固化过程完成后，晶片被移入后固化室，在需要时可提供额外的加热或干燥循环，以增强膜的完整性。430S-5-1-ML-WP Photoresist Tool具有直观和用户友好的体系结构,对光刻胶工艺的每个步骤都有明确的分步说明。独立工艺室的集成和清洁化学品的精确输送、抗薄膜、固化时间，使其成为高端光刻应用的绝佳选择。