二手 SEMITOOL 460F #151780 待售

SEMITOOL 460F
製造商
SEMITOOL
模型
460F
ID: 151780
晶圆大小: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 460F Photoresist Equipment是一个全自动的前侧化学湿式站,设计用于在半导体元件的生产过程中处理半导体晶片。该系统旨在提供优异的化学均匀性、柔韧性和光刻涂层工艺精度。460F具有集成的晶片装载机和晶片卸载机,能够处理各种晶片基板,包括标准配置和裸背配置的4英寸和6英寸晶片。晶片的装卸是用机械臂完成的,以确保最高质量的结果。设备可配置为每个周期最多处理8个晶片,加载时间可从20分钟调整为6小时。该机采用精密的化学计量控制,确保涂层厚度准确均匀。该工具配备了先进的化学分配控制器,用于监测和记录每种光刻胶和化学分配的分配速率。SEMITOOL 460F资产能够创建统一的分配和涂层配置文件,可以根据预定的配方参数进行编程。460F型号还配备了自我诊断测试功能和警报日志,以便于设备的监控和维护以及故障检测。此外,该系统还包括一个带有冷却塔的温度控制单元,以保持晶圆工艺室内的温度稳定性,并允许光刻胶具有更高的分辨率图像。SEMITOOL 460F Photoresist Machine是半导体实验室和研究设施的理想选择,它们需要可靠、高效的方法来处理晶圆。该工具旨在提供卓越的化学均匀性和精确的光阻涂层,同时仍可方便维护和有效诊断。460F资产是研究实验室和生产设施的理想选择,这些实验室和生产设施需要高质量的光刻胶处理解决方桉。
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