二手 SEMITOOL 460S #151779 待售

SEMITOOL 460S Photoresist Equipment是一种全自动化学机械平面化（CMP）系统,旨在提供底物的化学/机械加工。它配有精密晶圆载体和自动清洗、预清洗、CMP、后清洗和干燥模块。用户友好的图形界面允许轻松优化和设置过程。460S装有一个六袋枪管，用于加工直径不超过8英寸的基板。CMP头悬挂有空气承载垫，允许在晶圆的整个表面均匀分布压力。晶圆载体通过一个工艺外壳保护其免受化学/基板相互作用的影响,该外壳在每个步骤之间反转以保持最高的工艺一致性。CMP磁头设计有可移动的硬质合金块来调整晶圆与磁头之间的间隙。SEMITOOL 460S Photoresist Unit具有可调节的机器控制程序,可实现用户定义的洗涤速度、压力和CMP头速度。该单元还具有0.3 psi和0.6 psi之间的固定腔室压力,从而实现晶片与基板的一致性。该工具能够测量和监控资产压力、储集层体积和泵速等过程数据，提供实时结果。独特的双抖动清洗技术确保了最高质量的CMP结果和抛光工艺的均匀性。用户友好的图形界面允许轻松的过程规划和优化。此外，该模型还包括一个集成的自动化控制器、一个PC软件包以及一个可下载食谱的综合库。460S光敏设备旨在通过提供最大生产力和高精度CMP结果来降低运营成本。它是用于半导体、MEMS和基于MEMS的设备制造的理想解决方桉。该系统能够处理各种基材和材料，是许多大批量生产应用的理想选择。