二手 SEMITOOL 470F #151769 待售

SEMITOOL 470F
製造商
SEMITOOL
模型
470F
ID: 151769
晶圆大小: Up to 6"
Spin rinse dryer, up to 6".
SEMITOOL 470F光刻设备是一种用于半导体工业的涂层、开发和清洗晶片的自动化解决方桉。其先进的设计促进了晶片加工操作的更高精度和重复性,包括干膜和湿膜操作。该系统旨在将光刻胶应用于单面和双面晶片。光致抗蚀剂是一种均匀、光敏的有机聚合物材料,用于半导体制造。光刻胶在晶片上的应用有助于为每个器件创建特性,从而能够制造细间距的半导体器件。470F由多个模块组成,这些模块跨晶圆工艺线集成在一起。这包括自动晶片装载机(AWL)、晶片传输以及各种工艺模块,如Spin Coater、Spinner、Developer、Cassette Cleaner和Hot Slot。自动晶片装载机(AWL)提供了可靠、准确的晶片往返设备的定位和转移。此外,AWL允许在兼容接口上安装盒式磁带,从而实现高效可靠的盒式磁带到盒式磁带的传输。晶圆传输模块提供了一个完整的传输和运动控制,而可重新配置的传输路径是通过一个完整的闭环运动控制和数据记录机实现的。工艺模块使光刻胶能够应用于晶片。Spin Coater用于高速在晶片上创建均匀涂层。Spinner用于在晶片上开发光刻胶,去除多余的光刻胶和去除残留物。显影剂模块用于在蚀刻或创建电路图样之前卸下有害的光刻胶。Cassette Cleaner用于在操作过程中通过喷洒清洁溶液来清洁晶片。热槽用于干燥光刻胶。总之,SEMITOOL 470F Photoresist Tool是一种用于半导体工业的涂层、开发和清洁晶片的综合自动化解决方桉。集成模块和高级设计使晶圆处理操作具有更高的准确性和可重复性。
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