二手 SEMITOOL 8300 #84827 待售
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ID: 84827
晶圆大小: 8"
Spin Rinse Dryer, up to 8"
102 Controllers, Digital programmable controller
8300 8” high profile Chamber
Non-contact labyrinth N2 Seal
NB owl with RA10 finish
Brushless Motor with LC-4 Motor Controller
Static Eliminator Assembly
Color coded pneumatic tubing
Rotor Quick Disconnect , Built to customer provided carrier, 2" to 8"
Polypropylene cabinet “Aero Style”
Gaskets, orings, tubing, seals
Vibration dampeners
Complete Documentation Package
Particle counts < 25 at .3 micron
17 meg Ohm DI water and class 1 N2.
SEMITOOL 8300光刻设备是一种综合对准和光刻解决方桉,用于在基板上创建微型结构。它非常适合先进的半导体器件制造工艺和电子材料研究。它包括两种不同的设备-步进器和涂层/显影剂-以精确对齐基板并为微观结构做好准备。步进器是一种光学扫描系统,旨在精确扫描基板。步进器利用各种特性提供高度精确的对准单元,如不锈钢框架、索引板和数码相机。它可以精确地对5微米或更小的特征进行成像,并具有极快的扫描速度以快速对齐基板。Coater/Developer可用于在基板上施加光致抗蚀剂,以便在基板上创建微结构。涂层/显影剂包含两个主要部分-涂层和显影剂。涂层用于在基材上涂抹均匀的光刻胶薄膜。它由一个气动压力喷嘴组成,能够精确、均匀地控制应用。显影剂含有溷合床离子溶液(MBI),有助于去除基板上的光致抗蚀剂。此外,8300还包括一系列性能增强附件,如自动索引器、自动聚焦级、温度控制系统和多层探测器系统。所有这些附件都可以提高机器的精度和性能。该工具还包含许多其他功能,旨在提高流程生产率和产品质量,如利用暗场成像技术和高级边缘定位功能。SEMITOOL 8300光刻资产是一种可靠、通用且现代的光刻解决方桉,非常适合微结构化应用。它的高级功能允许高精度和精确度的过程,同时还提供一系列性能增强选项。这种全面类型的光刻模型是必要的,以便取得可靠的结果并产生高产率的系统。
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