二手 SEMITOOL Paragon #293592805 待售

製造商
SEMITOOL
模型
Paragon
ID: 293592805
晶圆大小: 12"
ECD Plating system, 12" (2) FOUP WIP Anneal chamber ULVAC Metrology unit (2) CFD Chambers with in-situ rinse RTA Probe Pump Bleed bath recovery (2) Capsule chambers with cooling coils Heated N2 Sample port Tank with AMCS connections Power supply: 480 VAC, 125 A, 50/60 Hz.
SEMITOOL Paragon是由SEMITOOL, Inc.开发的一种用于在半导体中创建极精细特征的"光刻"设备。该系统采用高精度遮罩对准器,能够成像模式到半导体基板上,精确度非常高。该过程从包含需要转移到基板上的图样的光掩码开始。然后,在基板上方放置一块专门的光掩模,并使用透过掩模发光的光来创建所需的图桉。Paragon光致抗蚀剂单元由两个主要设备组成:相片对齐器和显影剂。Photo Aligner由一个对齐阶段、一个顶架和一个照明器组成。对齐阶段控制着光掩模在基板上对齐的精度,而顶部支架提供了光掩模可以移动的光滑表面。该照明器利用光致抗蚀剂兼容光源,包括可见光源、紫外线光源和红外光源,以创造极好的特征。显影剂设计用于去除和固定光敏材料。光致抗蚀剂材料暴露在所需图桉后,必须从表面进行清洗,需要涂抹一层新的光致抗蚀剂。为此,开发人员使用湿式工作台,使用化学浴去除和固定光刻胶。SEMITOOL Paragon光电抗蚀器的设计是为了能够精确和可重复地创建小尺寸和特征尺寸的半导体图样。该工具具有高吞吐量和特征大小控制,可提供高达45nm的精度。资产的掩模对齐器允许晶圆上的光掩模极精确对齐,从而进一步提高精度。此外,该模型还允许使用各种光刻胶,以确保实现所需的特征尺寸。
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