二手 SEMITOOL Raider #9018339 待售
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ID: 9018339
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
Wafer backside etcher, 6"
Configuration:
Process: backside and bevel etch/clean
Substrate: 6" Si with flats
Voltage: 380 V, 3 phase, 50/60 Hz, 5 wire
CE comp: yes
S2 comp: yes
Automation:
Type: 2 open cassette
Robot: STI single linear
End effector: edge grip
Pre-aligner: no
Cabinet:
Style: 2 chamber with WIP version 2
Material: PVC-C
Exhaust: bottom
Facilities: bottom
Fire supp: eng req (no external comp)
ULPA filters: standard (to cover both wafer handling area and chambers)
Process module:
CPC1/CPC2 backside layer etch
Chamber: 8" capsule
Rotor: 6" capsule I
DRVHD: capsule I
Auto: Raider L/R
MFC on N2 and IPA (top/bottom)
IPA vapor dry
Delivery systems:
Tank 1
Size: 20 L
Style: bottom draw
H/C: coils
Circ: recirc/reclaim
Filter: 5" 0.1 um
Level sensor: 3 floats
Pump: Levitronix BP-3 48 V
Supply: bulk fill
Delivery: CPC 1 & 2
Chem: dHF
Chemical trunk line delivered to bottom of CPC1/CPC2
SMTL transducer for all liquids
Drains: IPA, IW, HF
Options: (2) Affinity heater/chillers
Engineering required:
Cabinet
Elec pods
Automation
Process component integration
Electrical
Software
Plumbing layout
Gas flow monitoring and data logging
Robot interface
Manuals
Chiller/heater, 50 Hz, European
Chiller M75, 50 Hz, PD-2
2004 vintage.
SEMITOOL Raider光刻设备是一种自动化的高通量光刻工具,用于在半导体器件上绘制特征图样。该系统配备了精确的机器人技术,可以准确地将半导体晶片从一个加工站到另一个加工站。入侵者的特点是激光干涉仪用于精确的晶圆定位,负载锁定装置用于精确的温度控制和环境清洁,以及0.5微米涂层/显影剂用于精确的保形处理。SEMITOOL Raider的光刻涂层站设计为在晶片上涂上一层薄薄的抗蚀层,为光刻做准备。该机提供高达6晶圆/分钟的抗蚀涂层速率,精度和分辨率低至0.1微米。涂层晶片随后被移动到光掩模工作站,在该工作站,红外线或近紫外线激光照亮光掩模上所需的图样。这允许使用相同的光掩码来照明非常小的图桉或完整的电路设计。Raider的扫描仪工作站允许为每个晶片编程特定的扫描模式。这样可以确保将单个特征或完整的电路设计精确地阵列化到晶圆上。然后使用SEMITOOL Raider的光致抗蚀剂显影站将抗蚀剂图样转移到晶片上。该站还配备了先进的温湿度控制,确保过程一致。Raider旨在提高光刻工艺的生产率,同时保持可重复的结果。由于其严格的过程控制和可重复性,用户可以期待可靠、一致和经济高效的结果。该工具还与工艺化学体系高度兼容,易于与各种化学品和材料集成。所有这些功能使SEMITOOL Raider成为寻找可靠光刻资产来处理其半导体器件的用户的理想选择。
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