二手 SEMITOOL / RHETECH ST 270 #293594925 待售

製造商
SEMITOOL / RHETECH
模型
ST 270
ID: 293594925
优质的: 2010
Spin Rinse Dryer (SRD) Wafer cassette, 6" A182-60MB-0215 Teflon carrier, 6" (25-Slots) PSC-107 Controller Table included 2010 vintage.
SEMITOOL/RHETECH ST 270是底物加工业的重要工具。它是一种光致抗蚀剂设备,用于在半导体晶片和其他基板上创建图桉化层,用于微电子元件和微流体器件的生产等应用。它有三个基本成分:一个薄膜,一个镀铬或光敏膜,和一个控制器单元。薄膜用作用光照射基板的窗口,并包含一个用来限制光强度的孔径。镀铬或光敏膜是一种光敏材料,旋转到基板上。当暴露在光线下,感光材料发生反应,改变其化学形成,形成所需的图样。控制器允许微调辐照参数。RHETECH ST 270光刻胶系统有几个特点,旨在增强过程控制。它可以在无损模式下操作,允许在继续处理的同时多次暴露和测试基板。此外,还包括晶片级识别单元,以最大限度地提高工艺精度。该机器允许将辐照区域精确对准基板,以实现设备生产所需的复杂模式。它的高分辨率动态扫描能力允许较小的特征尺寸和更精细的图桉精度。此外,刀具的高速扫描能力允许缩短工艺周期时间。SEMITOOL ST 270还提供可选的光滤镜和模式识别软件作为其远程控制接口的一部分。这允许用户细化资产的曝光参数并调整其参数以优化流程。它还具有一个原位清洁选项,在重新暴露基板之前执行。原位清洗过程显着减少了基板上的排便。总体而言,ST 270光刻胶模型是创建具有快速吞吐量和高重复性的复杂图案的理想解决方桉。它具有多种高级功能,允许用户针对其特定应用程序优化流程。其光学滤光片、遥控接口和原位清洗选项为用户提供了高精度应用所需的工艺灵活性和鲁棒性。
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