二手 SEMITOOL / RHETECH ST-870 #9265368 待售

SEMITOOL / RHETECH ST-870
製造商
SEMITOOL / RHETECH
模型
ST-870
ID: 9265368
晶圆大小: 6"
优质的: 1997
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" 1997 vintage.
SEMITOOL/RHETECH ST-870 Photoresist Equipment使用获得专利和先进的化学开发技术来实现金属、聚酰亚胺和光致抗蚀剂材料的精确制图。该系统由四个模块组成,可独立使用或组合使用,以创建光刻胶特征。模块包括一个Mask Aligner,它使用了基于真空的精密图样表面和微透镜来曝光光刻层;搅拌器/散布器,协助将光刻胶均匀分配到基板上;该加热器便于快速固化以控制结晶,而Refrel则可实现高度蚀刻或去除光刻胶层。Mask Aligner非常适合需要精确且可重复的光刻胶层放置和阵列的应用。该装置的设计采用了先进的分束光学系统,可产生大的平场曝光,在基板表面上均匀分布能量。这确保了± 0.5微米的功能精度、1.8 kV的低压工作以及高达1.5 x 1.5英寸的大而稳定的曝光场。溷合器/散热器提供了对光刻胶分配量的精确控制,并具有调节液体以提高涂层均匀性的能力。这为电子应用提供了低缺陷的光刻胶层。各种温度和搅拌配方可用于定制开发过程的各个方面。该加热器设计用于光刻层的快速热固化。这种最先进的加热器设计可确保温度稳定性± 0.2摄氏度,并可控制基板温度。Refrel是清洁聚合物表面的有效工具。它提供了对蚀刻速率和深度的精确控制。它具有一个能够达到285 °C的加热工艺室,以及一个能够为各种工艺步骤提供充分灵活性并有助于减少基板热冲击的设计。RHETECH ST-870 Photoresist Machine提供了一系列功能,可在电气、光电和机械应用的基板上创建可复制的图样。该工具为制造商提供了成本节约、精确的图桉和均匀的涂层、生产各种元件的可重复性以及缩短的周期时间。
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