二手 SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP #9209043 待售

SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Equipment是一种高端的基于对流的光刻系统，专为精密的微光刻工艺而设计。它用于光刻涂层和处理小基板，如用于半导体和微电子应用的高分辨率光罩。S27-S-3-1-ML-WP光刻装置有一个三轴控制，它提供精确和可重复操作，以及一个宽敞的基板检修室。配备先进、易用、人性化的软件机，并配有方便的不锈钢储物柜。该工具提供高分子基板兼容性，其中包括液体、干性和可回收性抗蚀剂。这种多功能性允许各种光刻工艺，包括自旋涂层、槽涂层和棉签工艺，这些都得到了全面配方编辑和自动可编程重复性的支持。此外，SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP资产允许最大限度的基板温度控制，提供光敏材料在整个基板上最均匀的分布。S27-S-3-1-ML-WP模型旨在实现工艺参数的最佳精度和可重复性。先进的软件和温度控制允许精确曝光和开发时间。此外，该设备还包括先进的流量控制系统，可实现精确和可重复的旋转速度和压力。SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit旨在满足当今微电子和半导体行业不断变化的工艺需求,为用户提供可靠、高效的性能。它具有全面集成的工艺和故障监控，以及高质量的阳极氧化铝结构。光刻机S27-S-3-1-ML-WP空间高效设计，是空间有限的生产和实验室环境的理想解决方桉。