二手 SEMITOOL Spin Rinse Dryer (SRD) #293747905 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293747905
SEMITOOL自旋冲洗烘干机（SRD）是半导体工业中光刻加工的关键设备。SRD设备设计用于在光刻制图过程后从半导体晶片中去除残留的光刻材料。SRD的主要功能包括用高纯度溶剂冲洗晶片，将其纺丝以去除多余液体，并干燥以确保表面清洁无污染物。SRD系统由几个关键组成部分组成,这些组成部分共同努力以取得预期的结果。第一个元件是自旋模组，负责高速旋转晶片，方便液体的去除。旋转作用产生离心力，驱使溶剂脱离晶片，留下干燥的表面。旋转周期的速度和持续时间可以调整，以优化不同类型的光刻材料和图桉的清洗过程。SRD单元的另一个重要组成部分是冲洗模块，它将受控量的高纯度溶剂分配到晶片上，便于去除光致抗蚀剂残留物。冲洗过程中使用的溶剂通常是去离子水和化学添加剂的组合，以提高清洁性能和防止晶片再污染。冲洗模块配有精密分配喷嘴，确保在清洗过程中晶片均匀覆盖。除了自旋和冲洗模块外，SRD机还包括一个干燥模块，利用热和强制空气的组合，从晶圆中去除任何残留的溶剂痕迹。干燥过程对于防止水斑和其他残留物在晶片上形成至关重要，这可能影响后续加工步骤的质量。干燥模块配有温度和气流控制系统，以确保一致和有效的干燥性能。SRD资产的控制工具在确保可靠和可重复运行方面起着至关重要的作用。控制模型管理自旋、冲洗和干燥循环的正时、速度和温度参数，以优化清洁性能，并最大限度地降低晶圆受损的风险。高级控制功能（如配方管理、数据记录和警报）可帮助操作员监控和调整清洁过程,以满足不同半导体制造过程的特定要求。总体而言，SEMITOOL Spin Rinse Dryer （SRD）是一种通用且高效的工具，用于去除半导体晶片中的光致抗蚀剂残留物。通过在单个设备中结合旋转、冲洗和干燥功能,SRD使半导体制造商能够在其生产过程中实现高水平的清洁和一致性。凭借先进的控制功能和可定制的设置,SRD系统为半导体行业的关键清洁应用提供了可靠的解决方桉。
还没有评论