二手 SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML #9366563 待售

SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML Photoresist Equipment是一种自动化晶片带、抗蚀剂和剥离系统,旨在为半导体和IC技术的供应商和开发者提供高效、准确和经济高效的沉积和剥离光刻剂的能力,用于各种晶片制备应用。该单元使用具有1到6晶圆容量的带状剥离（SP）模块。晶片首先由带真空内窥镜的盒式磁带或吊舱固定。然后将其转移到光致抗蚀剂被置换的框架位置。抗蚀剂通过集成的R2机器以平行于晶片平面的方向精确滚动到晶片表面上。然后将抗蚀剂保持几秒钟不变，使抗蚀剂进入晶片表面。这种设定可以在环境温度到200摄氏度以上的温度下进行。温度也可以通过器件类型或光刻类型来调节。该工具能够使用SRD-240S-6-1-E-ML集成的PEELER资产，从晶片上自动做一整条光刻胶，设计为使用两种不同的剥离技术；以洗涤剂和溶剂为基础。溶剂基工艺用于分活水平结构和结点技术的洗涤剂基工艺。此外，该车型采用内置干燥机设计，可用于进一步除湿。烘干机还可以用来预密环境，以获得理想的去除抗性条件。用户还可以调整过程参数，如温度、流速和旋转速率，以获得所需的结果。SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML还有一个集成的缺陷检测设备，允许用户检测和测量晶圆缺陷，这对于控制过程结果非常重要。此外,系统还具有进程参数的实时监视器,以确保该进程得到最佳运行。总而言之，对于半导体和IC技术制造商来说，SRD-240S-6-1-E-ML是一个极好的光阻装置。这台机器高效、准确、经济高效，易于调节，以适应不同类型流程的需求。此工具可确保用户在晶圆制备应用程序中获得最佳、最高质量的结果。