二手 SEMITOOL SST-C-221-280-PB #9408953 待售
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ID: 9408953
Spray solvent system
Stainless steel cabinet
Process:
Metal lift off
Resist strip
Polymer removal or wafer cleaning
(2) Heated tanks (NMP)
(2) Ambient heated tanks (IPA)
Front touch screen
SEMITOOL 302 Controller
280 Bowl (Accommodates 8" substrate-low profile)
Encapsulated ferro fluidic drive seal
KALREZ Bowl seal
N2 Purged dedicated chemical
DI Water spray manifolds
Dedicated TFE N2 dry manifold
Graphic color controller
Process variable control of RPM
Heated chemical temperature
Vertical Auto Door (VAD)
Power: 208V, 5 wires, 3 Phase.
SEMITOOL SST-C-221-280-PB是一种光刻设备，在先进的光刻工艺过程中提供卓越的性能和卓越的工艺可靠性。该系统是一个全自动、功能齐全的光刻胶处理解决方桉,能够运行具有多种基板配置的单步和多步过程。该装置采用全自动基板装载机，能够为不同工艺储存多达五套配方。该工具具有最优质的材料、组件和工程实践,可确保卓越的性能、可重复性和过程可靠性。该资产采用专利气体输送技术，将光刻胶统一分配到基板表面，消除了人工扩散的需要。一个独特的双泵模型用于确保光刻胶在基板上的均匀分布，同时还提供一个一致和可重复的过程。该设备能够处理直径不超过6英寸、最大厚度为200微米的晶片。该系统利用一个完全集成的石英晶体监测单元来测量晶片级的光刻胶厚度，并监测光刻胶层的均匀性。该机器还配备了一个实时的进程中检查工具，允许用户在进程运行过程中监视光刻胶层。SST-C-221-280-PB还配备了高密度、低温烘烤能力，确保了可重复的工艺条件，并确保了一致的抵抗模式和烘烤。该资产还配备了两个加热阶段和两个冷却阶段，允许精确的过程控制。总体而言,SEMITOOL SST-C-221-280-PB是一种先进的光阻模型,旨在提供卓越的性能、过程可靠性和可重复性。该设备是为先进的光刻工艺而设计的，并且允许一系列的工艺参数可以针对特定的应用进行定制。该系统利用最高质量的材料、组件和工程实践来确保卓越的性能、可重复性和过程可靠性。该设备能够处理直径不超过6英寸、厚度不超过200微米的晶片。该机还具有集成的石英晶体监视器和过程中检测系统，以确保卓越的性能和过程可靠性。
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