二手 SEMITOOL ST 280 #9160074 待售
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ID: 9160074
Spin rinse dryer (SRD)
Capable of processing up to 8"
Single table top
Included:
328 Controller.
SEMITOOL ST 280是设计用于半导体制造的光刻设备。它被设计用于晶圆等离子体蚀刻和湿化学加工室。该系统提供多步循环能力,具有精确的温度控制、高均匀性和最优的过程控制。该模型在主流CMOS中75-200 µm基板的生产线加工和MEMS技术中特别有用。ST 280由强大的可编程逻辑控制器(PLC)驱动,并配有高温多点电阻温度检测器(RTD)阵列,用于工艺室的快速倾斜和冷却。利用高效、高性能的计量蒸气输送和惰性气体控制系统,该装置的精密加工部件构成了生产过程中可靠和必不可少的组成部分。该机具有四点基板支架传感器阵列和集成摄像头,用于在腔室中精确和可重复的基板对准。高度模块化的洗涤器和清理工具保持了理想的缓冲器界面,进一步提高了资产的可靠性。为了优化基板加工,SEMITOOL ST 280采用了行业标准的腔室设计。x、y和温度区产生极好的均匀性,晶圆的横向中心到边缘均匀性通常优于0.25 °C。枢轴环在z方向上提供额外的0.25°C均匀性变化。模型的气体溷合能力使得创建定制气体压力和流量剖面成为可能。这与各种基材一起,使设备能够用于各种蚀刻和沉积过程。ST 280支持晶圆温度控制从室温到400°C,稳定度为6°C。高热均匀性使制造商能够减少过程窗口,实现过程可重复性和无与伦比的生产率,降低过程温度,提高产量。该系统支持多种生产级光刻胶厚度。此外,该单元还采用了行业标准的4层电动卡盘升降机,无需进一步修改卡盘,以及通用卡盘,这是一项出色的功能,无需使用特定于过程的夹具。综上所述,SEMITOOL ST 280是一种可靠高效的机器,为晶圆等离子体蚀刻和湿法化学加工室的光刻过程提供了卓越的精度和重复性。该工具可运行多种工艺,非常适合75-200 µm基板的生产线加工。它提供了卓越的控制、温度均匀性和过程可重复性,可节省成本和产量。
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