二手 SEMITOOL WSST-805A #9270149 待售
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ID: 9270149
晶圆大小: 8"
Water soluble strip system, 8"
Designed to strip photoresist
With water soluble based (NMP) strippers then do Isopropal rinse and dry
280 Matted bowl (Max size 8" wafers)
(2) Heated NMP tanks
(2) Non-heated Acetone tanks
(2) Non-heated IPA tanks.
SEMITOOL WSST-805A光电抗蚀剂设备是一种先进的晶片自旋涂层和开发技术,为高质量的薄膜介电层提供可靠的沉积和处理。该系统采用晶圆技术,与铝、铜、陶瓷、硅、石英等多种常见基板兼容。它专门设计用于处理直径最大为8英寸的晶片,并在晶片的整个表面实现均匀覆盖。该单元具有气动操作的卡盘,可容纳直径达8英寸的晶片,并以最大450 rpm的自旋速度运行。它还包括0-50赫兹转速范围的晶圆电机。对于均匀的晶片覆盖,机器具有可自动调节的旋转斜坡速率,可以设置该速率以实现每种基板的最佳涂层厚度。该工具还配备了有助于确保薄膜沉积均匀性的冲洗资产。该模型使用抗蚀剂罐进行光刻和显影剂的交付。将抗蚀剂罐加热至最佳温度,以便在加工过程中达到最大均匀性。加热用热电偶完成,由温度控制的加热器控制。温度控制在不同的加工温度范围内是可调整的,这取决于抗蚀剂的类型。定时装置允许操作员设置设备,以预编程间隔传送所需的光刻胶量。该装置还具有监测光刻胶浓度并相应调整电平的能力。该系统旨在确保每个处理步骤均具有准确、可重复的薄膜均匀性。该单元还包括一个闭环反馈回路,可以检测过程条件的变化并调整机器以保持一致的处理。WSST-805A光敏工具是为现代半导体制造而设计的,在薄膜介电层沉积中具有较高的可靠性和精确度。它与多种常见的基材兼容,可用于加工直径达8英寸的晶片。它还配备了加热设备和定时装置,以确保所需的光致抗蚀剂浓度和薄膜沉积的均匀性。该模型还配备了一个闭环反馈回路,该回路设计用于监控和调整过程条件,以确保批次之间的性能一致。
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